Firebird

Firebird™-systemet är en helautomatiserad ALD-plattform för batchproduktion som levererar enastående homogenitet med marknadens bästa flöde till den lägsta möjliga kostnad per wafer. Genom att integrera beprövade, autamatiserade Veeco-lösningar, möjliggör den säker hantering av wafers med sin lågpåverkande batchöverföring. Den modulära designen för uppvärmning och nedkylning ger en flexibel lösning av värmehanteringen, och går att  skräddarsys efter dina behov. Firebird™-systemets högkapacitetsreaktorer, den låga underhållskostnaden och kompakta ytan ger marknadens mest kostnadseffektiva lösningen samtidigt som de överträffar dina prestandakrav.

Nyckelfunktioner:

• Idealisk för oxidfilmer, inklusive inkapslings- och barriärskikt, optisk beläggning
• Marknadens bästa genomströmning (upp till 40 000 wafers per månad)
• Beprövad Veeco-automation
• Säker waferhantering för ömtåliga och temperaturkänsliga substrat (t.ex. LNO/LTO/glas)
• Modulär termisk hantering för optimal processflexibilitet och flöde.
• Världsomspännande försäljning, service och support

Fördelarna med konfigurerbarhet

Den modulära systemkonfigurationen kan effektivt skräddarsys för att minimera flaskhalsar i processflödet och erbjuder enastående flexibilitet för processen.

Flexibilitet och användarvänlighet

Firebird™ med sin robusta men ändå flexibla reaktordesign ger kompromisslös processprestanda med sömlös kapacitet vid övergång av waferstorlek, hela vägen upp till 300 mm.

Kostnad per Wafer

Med sina långa kampanjer och förbättrade servicemöjligheter, uppfyller och överträffar Firebird™ dina kostnadskrav från utvärdering från små partier förproduktion hela vägen till ökad produktion. Med en genomströmning på upp till 40 000 wafers per månad (baserat på 100 nm Al2O3-tjocklek), kombinerar Firebird™ marknadens bästa produktivitet, överlägsen prestanda och låga driftskostnader, vilket leder till högre lönsamhet även för de mest krävande kunderna.